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ZMP960 晶體出現(xiàn)率分析儀產品介紹

首頁產品中心醫(yī)藥行業(yè) 粒度粒形分析儀 ZMP960 晶體出現(xiàn)率分析儀 ZMP960 晶體出現(xiàn)率分析儀產品介紹

ZMP960 晶體出現(xiàn)率分析儀產品介紹

一．結構原理ZMP960晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過專用高分辨率CCD線性傳感器和顯微光學掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸到計算機中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結合智能的背景分離及超強的顆粒邊界搜索算法，將目標顆粒與背景分離，分析出各種測量參數，并通過顯示器和打印機輸出。該儀器具

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品種介紹

一．結構原理

ZMP9 60 晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸到計算機中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進行分析。結合智能的背景分離及超強的顆粒邊界搜索算法，將目標顆粒與背景分離，分析出各種測量參數，并通過顯示器和打印機輸出。

該儀器具有超大測量范圍及高分辨率，同時具有直觀、可視、準確、操作簡單、測量參數全面等特點。能夠同時測量顆粒粒度、形狀及表面顏色的新型顆粒分析儀器。

二.產品介紹

ZMP960晶體出現(xiàn)率分析儀，可以直接對透明貼劑中析出的晶體進行掃描，按照規(guī)定掃描范圍進行掃描一定的面積，將其中的晶體識別出來并做數量統(tǒng)計。軟件可以內置公式得出晶體出現(xiàn)率。

三．性能指標

1. 測量范圍：1μm ～ 100mm

2圖像分辨率：900萬像素

3.光學平臺：100mm * 120mm

4 背景光源：反射光

五、測試數據展示

上海梓夢科技有限公司

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